展示了 7nm 芯片的 IBM,真的领先英特尔了吗?

2015年07月10日 产品 评论关闭 阅读 783 views 次

当芯片行业正处于 14nm 往 10 nm 的转型期,IBM 用 7nm 抢占了媒体的头条。

据多家外媒消息,IBM 近日向外界展示了 7nm 制程的芯片样品。这项技术并非由 IBM 一家研发,GlobalFoundries、三星和纽约州立大学理工学院纳米工程都是合作伙伴。

至于 7nm 制程在技术上的实现,IBM 半导体科技研究部副总裁 Mukesh Khare 表示,研发团队采用了硅锗(silicon germanium)作为材料,而不是原有的纯硅,并利用了极紫外线(Extreme Ultraviolet,EUV)光刻技术。

相较 10nm,7nm 制程的面积缩小近一半,但因为能容纳更多的晶体管(IBM 宣称能超过 200 亿个),性能提升了 50%。此外,功耗也会降低。

(IBM 展示的 7nm 制程芯片样品)

国内外不少媒体都对 IBM 所取得的成就给予了极高的评价,《纽约时报》相关报道最初的标题是:IBM Announces Computer Chips More Powerful than Any in Existence(IBM 发布的电脑芯片比现在所有的都要强大),Ars Technica 的标题也用了“beyond silicon”这样的字眼,国内的一些媒体更是直言“IBM 打了英特尔的脸”。

然而,IBM 的 7nm 芯片还只是一个实验室产品,并且采用的是昂贵的硅锗材料,极紫外线光刻技术也很有技术难度,这使得 IBM 的 7nm 芯片制作成本过高,在民间推广阻力大。IBM 方面也没有给出 7nm 芯片量产和商用的准确时间表。

也许是意识到自己的标题有点言过其实,《纽约时报》将标题改成了更加准确的:IBM Discloses Working Version of a Much Higher-Capacity Chip(IBM 发布了还处于研发阶段的高性能芯片)。

事实上,英特尔对 7nm 的研究我们也早有耳闻。英特尔前任 CEO Paul Otellini 三年前就表示,英特尔已开始对 7nm 和 5nm 制程技术的研究。

今年 2 月份的 ISSCC 国际固态电路研讨会上,英特尔的高级研究人员 Mark Bohr 也谈到,英特尔无需借助极紫外线光刻(EUV)这种高深的制造技术也能实现 7nm 制程工艺,并且计划于 2018 年推出。

 

题图来自 Tech2daynow

插图来自 Ars Technica

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